Aba Group
Alfaparf
Allwaves
Alpinus
Alter Ego
Arkemusa
Be Hair
Bielenda
Bioélixire
Ce-Ce
Claresa
Clavier
Dolce nails
Donegal
Echos line
eco&hygiene
Ecoter
Edelstein
Erbel
Evin Rhose
Fanola
FARMONA
Frutti
Goldwell
Inebrya
Joanna Professi..
JOKO
Kallos
KATIVA
Kosmeo24
LaLill
Lexwo
Mabell
MATRIX
Medal
MEDILAB
MEDISEPT
MERCATOR MEDICA..
milkshake
Nghia
Olivia Garden
Oro Therapy
Prosalon
Refectocil
ReFleX
RONNEY
RR Line
Scandic Line
Schwarzkopf Pro..
Secret Lashes
Seliar
SENSO
Serical
STALEKS
Stapiz
SYIS
Vasco
weber@weber
XFEM
Linia odżywcza. Dla włosów suchych i odwodnionych. Z olejem arganowym i kwasem hialuronowym.
Substancje czynne:
- Olejek arganowy: ożywia i wzmacnia włosy, zwalcza rozdwajanie się końcówek oraz suchość i odwodnienie.
- Kwas hialuronowy: nawilża i wzbogaca włosy
Działania:
- Odżywia, zmiękcza i rozjaśnia włosy
- Rewitalizuje, nawilża i zmiękcza suche i odwodnione włosy
- Dyscyplinuje i nadaje włosom jedwabistość
Maska Argan Nourishing to intensywna kuracja dla włosów suchych i odwodnionych, będąca nieodłącznym elementem linii odżywczej opartej na wartościowych składnikach, takich jak olejek arganowy i kwas hialuronowy. Maska nie tylko odżywia i rewitalizuje włosy, ale także działa na poziomie skóry głowy, przywracając równowagę i zapobiegając starzeniu się włosów.
Właściwości:
- Przywracanie równowagi skóry głowy: formuła maski działa na skórę głowy, przywracając jej równowagę i wspierając zdrowe środowisko dla wzrostu włosów.
- Zapobieganie starzeniu się włosów: maska działa także profilaktycznie, zapobiegając starzeniu się struktury włosów.
Sposób użycia: nałóż maskę na mokre włosy, równomiernie rozprowadź, a następnie pozostaw na kilka minut, aby składniki aktywne mogły zadziałać. Po upływie kilku minut dokładnie spłucz. Regularne stosowanie maski przyniesie Twoim włosom intensywną pielęgnację, przywracając im zdrowie, blask i jedwabistą gładkość.
Skład: Aqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Argania Spinosa Kernel Oil, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Sodium Hyaluronate, Simethicone, Citric acid, Parfum, CI 17200, CI 19140, Methylchloroisothiazolinone, Methylisothiazolinone.